敬请读者朋友留心，本篇首要剖析芯片制作技能的开展，相对而言要专业一些，笔者尽可能做到简单明了、浅显易懂。
简而言之，芯片的母体是硅晶片（也称晶圆），形状类似于一张光盘，在这张圆形的晶圆上制作出一枚枚方形（长方形或许正方形）的芯片。这有点类似于咱们在照相馆拍证件照，一张感光纸上能印出9张或更多相片。
制作芯片的首要设备是光刻机和蚀刻机，其间光刻机是使用照相原理在晶圆上画出电路图，蚀刻机则是将这些电路图刻出来并进行加工，然后经过测验、将合格的产品切开下来进行封装（封测），就可以出厂了。这些设备中，光刻机是最重要的，因而光刻机也就成了全套芯片制作设备的代名词。
关于单个的芯片而言，在面积固定的情况下，电路越多、越密布，则芯片的功用越强壮。举个比方，咱们用的手机，块头一向没有多大改变，但功用越来越强壮，这便是芯片中的电路不断密布的成果。现在第一流的芯片，其电路密布的程度现已到达7纳米，也便是一根头发的万分之一。而台积电的制作工艺，很快就要到达5纳米乃至3纳米。
关于一块晶圆而言，晶圆的面积越大，单块晶圆所能制作出的芯片也就越多，所以芯片厂都期望用大块的晶圆出产芯片，这便是咱们常常触摸的概念，8寸晶圆厂，或许12寸晶圆厂。曩昔几十年，台湾当局在审阅台湾芯片厂商到大陆出资时，是严格控制晶圆厂的尺度的。2002年，当局牵强敞开台湾8寸晶圆厂到大陆出资。2016年2月，赶在蔡英文5月20日就任之前，当局同意台积电到南京出资建立12寸晶圆厂。
台积电之所以遥遥领先其他芯片制作厂，原因就在于它在光刻机范畴作出了打破性的奉献。
林本坚本籍广东潮汕，1942年出生在越南，在越南西贡长大。1959年，林本坚独自一人到台湾读高中，之后考入台湾大学。大学毕业后林本坚赴美留学，并于1970年取得美国俄亥俄州立大学电机工程学博士学位。1970年至1992年，林本坚在IBM作业。1992年至2000年，林本坚在美国创业。2000年，林本坚回来台湾参加台积电。
在IBM期间，林本坚便是光刻技能范畴的奇才。1975年，作业仅5年的林本坚做出其时光刻范畴最短波长的光线，他自己把它命名为深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。后来，DUV成为光刻显影技能的干流。
现在我国芯片厂商求之不得的设备EUV（极紫外线）光刻机，便是在DUV技能基础上开展出来的。
在做出DUV光线年，林本坚意识到，原本的微影技能现已走到了止境，很难再开展了。
这个时分微影技能所能触及的最短的波长，是157纳米。全世界的尖端光学专家，都面临着157纳米这样一堵高墙，再也无法行进一步。
在无法行进之际，林本坚开端进行反向思想。已然157纳米无法打破，还不如退回到193纳米，然后在镜头和晶圆之间参加其它介质，是否就能做出更短的波长呢？
之前的技能，便是镜头面临晶圆，经过摄影画出电路图，镜头和晶圆中心什么都没有。
这个想象的原理其实很简单。举例说明，咱们把筷子放进水中，筷子看起来就折弯了、变粗了。之所以呈现这种现象，是由于水改变了波长。
而依据林本坚的想象，193纳米的波长，经过水的折射后，就变成了134纳米。
林本坚将这种办法称为滋润式微影技能（Immersion Lithography），之前的技能称为干式微影技能。
林本坚1986年发现滋润式微影技能后，持续进行研究，完善技能计划。在这个过程中，2000年，林本坚脱离美国来到台湾，加盟台积电。
2002年，在比利时举行的一个光电学会技能研讨会上，林本坚向全球同行公开了自己的发现和想象。
在林本坚宣布讲演之前，原本我们的评论焦点，是会集在157纳米干式微影技能上的。现在不得了了，林先生居然找到了更短的、134纳米波长的光波。
打破性的开展也引起强烈的对立。那次研讨会之后，对林本坚技能计划的辩驳汹涌而来，对立方罗列的理由看起来好像也有些道理，比方使用水做介质简单污染，水中的气泡会影响曝光等等。
还有一些搅扰的背面是来自本钱的力气，由于在157纳米这个层级，国际级的大厂现已投入了巨额的研制经费，林本坚的创造，意味着这些研制前功尽弃。有业界高层为此向台积电施压，要求台积电管管林本坚，让他收敛点，“不要搅局。”
张忠谋是多么人物？！面临林本坚这样的奇才，面临这样一个在技能上鹤立鸡群、一骑绝尘的时机，他怎么会摁住林本坚不让他发挥呢？！
针对质疑方提出的技能问题，林本坚和他的团队逐个进行研究攻关，在半年内宣布了3篇学术论文进行回应。
一起，林本坚带着自己日渐老练的技能计划，到美国、日本、荷兰、德国，与相关技能厂商进行深化的交流。
绝大多数厂商对林本坚的技能计划将信将疑，其间一个美国的大厂代表表明，他们肯定不会用这项技能。
只要荷兰的ASMI（阿斯麦尔）公司以为林本坚的技能计划是可行的，代表了光刻机未来的开展方向。
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经济调查报海外部主任，专家，长时间重视民营经济、国际经贸和反倾销，对宏观经济也有深化调查。
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